6月26日晚间，半导体领域的明星股拓荆科技（688072）发布公告称，公司正筹划通过发行股份加支付现金的方式，收购无锡尚积半导体科技股份有限公司（简称“无锡尚积”）的控股权，并同步募集配套资金。公司股票自6月29日（星期一）开市起暂停交易，预计停牌时长不超过10个交易日。
拓荆科技在公告中透露，已与标的公司股东王世宽、夏小军、上海泰纳微企业管理有限公司、无锡芯聚管理咨询合伙企业（有限合伙）、无锡宽行企业管理有限公司、无锡芯智管理咨询合伙企业（有限合伙）签署了《股权收购意向协议》。该协议属于各方就本次交易达成的初步共识，具体交易方案还需各方另行签订正式协议来明确。
无锡尚积成立于2021年6月，注册资本为2166.45万元，法定代表人王世宽，主营业务聚焦于半导体薄膜沉积与刻蚀设备的研发、生产及销售，核心产品涵盖PVD（物理气相沉积）、ETCH（刻蚀）、CVD（化学气相沉积）等关键半导体设备。
回溯其发展历程，无锡尚积的前身是上海松尚国际贸易有限公司，主要从事设备进出口代理业务。2021年6月，王世宽团队凭借“全国产化PVD设备”项目，在无锡“太湖杯”创业大赛中夺得优胜奖，随后将核心业务转移至无锡高新区，无锡尚积由此正式成立。
公司官方微信公众号信息显示，2025年1月3日，无锡尚积宣布更名为股份公司。同年10月，按照工业和信息化部第七批专精特新“小巨人”企业认定工作部署，江苏省工信厅公示了入选企业名单。无锡尚积凭借自主研发的12英寸PVD磁控溅射及特种PECVD设备核心技术，成功入围，成为区域集成电路装备产业链强链补链的代表性企业之一。
爱企查数据表明，无锡尚积至今已完成七轮融资，仅2025年便陆续完成了B轮、C轮及Pre-IPO轮融资。其中，Pre-IPO轮融资额超过3亿元，投资方阵容包括中车资本、江苏战新投、广州产投、国信弘盛、穗开投资、华强资本、巨石创投、宿迁产投、君联资本、锡创投等。
拓荆科技是国内半导体薄膜沉积设备领域的龙头企业。其主营产品包括薄膜沉积设备和三维集成设备，已构建起PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等薄膜沉积设备产品线，同时拥有晶圆对晶圆混合键合、晶圆对晶圆熔融键合、芯片对晶圆混合键合等三维集成设备产品。这些设备广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、功率器件、Micro-OLED、硅光技术及图像传感器（CIS）等多个领域。
在薄膜沉积设备板块，拓荆科技的PECVD系列设备在2025年实现营收51.42亿元，同比增幅达75.27%。
公开资料显示，薄膜沉积设备在前道晶圆制造设备市场中，价值量占比约为22%，与刻蚀设备持平，仅次于光刻机。
从全球视角看，逻辑芯片制程的升级、存储芯片堆叠层数的增加以及新工艺的引入，正推动薄膜沉积设备和刻蚀设备在产线中的占比及价值量逐步上升。全球薄膜沉积设备与刻蚀设备市场规模有望保持稳定增长。
据Maximize Market Research数据，全球薄膜沉积设备整体规模稳步扩张：2023年市场规模为260亿美元，预计到2029年将增至559亿美元。在薄膜沉积设备细分市场中，PECVD份额占比达33%，其余占比较大的设备包括PVD（19%）、ALD（11%）、管式CVD（12%）等。
另据Mordor Intelligence数据统计，2024年全球半导体刻蚀设备市场规模预计为238亿美元，到2029年有望增长至343.2亿美元，年复合增长率为7.60%。干法刻蚀占据全球市场份额的95%以上，主要分为电容耦合等离子体刻蚀（CCP）和电感耦合等离子体刻蚀（ICP）。
正因市场体量庞大且稳步增长，薄膜沉积设备与刻蚀设备已成为国内头部半导体设备公司争相布局的热门领域，不少企业纷纷将业务触角延伸至此。
目前，涉足薄膜沉积设备业务的上市公司包括拓荆科技、北方华创、微导纳米、中微公司、盛美上海等；而开展刻蚀设备业务的上市公司则有中微公司、北方华创、屹唐股份、盛美上海、至纯科技等。
由此来看，拓荆科技收购无锡尚积至少有两层意义：一方面可补充产品线，壮大薄膜沉积设备业务板块，进一步扩大市场份额；另一方面，借此切入刻蚀设备市场，提升公司所在赛道的市场规模天花板。
拓荆科技年内累计涨幅已超过150%，总市值达到2352亿元。最新股价报832元/股。
作者：李兴彩
